आणविक छलनी एक प्रकार का एलुमिनोसिलिकेट है, जो मुख्य रूप से ऑक्सीजन पुलों के माध्यम से सिलिका-एल्यूमिना से बना होता है, जो एक खुली रूपरेखा संरचना बनाता है। इस संरचना में एक समान छिद्र आकार और सुव्यवस्थित छिद्रों वाले कई छिद्र होते हैं, जिनका आंतरिक सतह क्षेत्र बड़ा होता है। इसके अलावा, इसमें कम बिजली कीमत और बड़े आयनिक त्रिज्या वाले धातु आयन और संयुक्त अवस्था में पानी भी होता है। चूंकि गर्म करने के बाद पानी के अणु लगातार नष्ट होते रहते हैं, लेकिन क्रिस्टल कंकाल की संरचना अपरिवर्तित रहती है, एक ही आकार की कई गुहाएं बनती हैं, और गुहाएं एक ही व्यास वाले कई माइक्रोप्रोर्स से जुड़ी होती हैं, और सामग्री के अणुओं का व्यास समान होता है। छिद्रों से छोटे व्यास वाले छिद्र लुमेन में अवशोषित हो जाते हैं। छिद्रों से बड़े अणु विकर्षित होते हैं, इसलिए अणुओं को छानने की क्रिया तक विभिन्न आकार के अणु अलग हो जाते हैं, इसे आणविक छलनी कहा जाता है। इसका उपयोग मुख्य रूप से विभिन्न गैसों, तरल पदार्थों को गहराई से सुखाने, गैसों, तरल पदार्थों, उत्प्रेरक वाहकों आदि को अलग करने और शुद्ध करने के लिए किया जाता है, इसलिए इसका व्यापक रूप से रिफाइनिंग, पेट्रोकेमिकल, रसायन उद्योग, धातु विज्ञान, इलेक्ट्रॉनिक्स, रक्षा उद्योग आदि में उपयोग किया जाता है। और चिकित्सा, ऑप्टिकल कार्यों में, कृषि, पर्यावरण संरक्षण और कई अन्य पहलुओं में भी इसका उपयोग तेजी से किया जा रहा है।

3ए आणविक चलनीमुख्य रूप से पेट्रोलियम क्रैकिंग गैस, ओलेफिन, रिफाइनरियों, तेल क्षेत्र गैस सुखाने, रसायन, फार्मास्यूटिकल्स, खोखले ग्लास जैसे औद्योगिक डेसिकैंट के लिए उपयोग किया जाता है।

मुख्य उद्देश्य:
1. इथेनॉल और अन्य तरल पदार्थों को सुखाना

2. इंसुलेटिंग ग्लास को सुखाना

3. नाइट्रोजन-हाइड्रोजन मिश्रित गैस का सूखना

4. रेफ्रिजरेंट को सुखाना

तकनीकी मापदण्ड:

नमूना	3A
सीएएस संख्या	308080-99-1
नाममात्र छिद्र व्यास	3 एंगस्ट्रॉम
आकार	वृत्त	गोली
व्यास (मिमी)	1.7-2.5(8*12 जाल)	1.6(1/16 इंच)
ग्रेड तक आकार अनुपात (प्रतिशत)	98 से बड़ा या उसके बराबर	96 से बड़ा या उसके बराबर
थोक घनत्व (जी/एमएल)	0 से बड़ा या उसके बराबर.70	0 से बड़ा या उसके बराबर.68
घिसाव अनुपात (प्रतिशत)	0 से कम या उसके बराबर.20	0 से कम या उसके बराबर.40
कुचलने की ताकत (एन)	55/टुकड़ा से अधिक या उसके बराबर	30/टुकड़ा से अधिक या उसके बराबर
स्थैतिक H2O सोखना (प्रतिशत)	21 से बड़ा या उसके बराबर	21 से बड़ा या उसके बराबर
एथिलीन सोखना (‰)	3 से कम या उसके बराबर.0	3 से कम या उसके बराबर.0
जल सामग्री (प्रतिशत)	1.5 से कम या उसके बराबर	1.5 से कम या उसके बराबर
विशिष्ट रासायनिक सूत्र	{{0}}.4K2O . 0.6Na2O . Al2O3 . 2SiO2. 4.5 H2O (SiO2 : Al2O3 ≈2)