एन-हेक्सानॉल सॉल्वेंट में ट्रेस पानी के शुद्धिकरण के लिए 4ए आणविक छलनी
एन-हेक्सानॉल एक विशेष सुगंध वाला रंगहीन और पारदर्शी तरल है। इसकी आणविक संरचना CH3(CH2)5OH है। इसका उपयोग कार्बनिक विलायक और कार्बनिक संश्लेषण कच्चे माल, दवा निर्माण और स्वाद तैयार करने के रूप में किया जाता है।
निर्जल एन-हेक्सानॉल प्राप्त करने के लिए, आमतौर पर इस्तेमाल की जाने वाली विधियाँ हैं:
1. आसवन: एन-हेक्सानॉल के क्वथनांक, जो कि लगभग 157.88 डिग्री है और अन्य अशुद्धियों के क्वथनांक के बीच अंतर का लाभ उठाते हुए, थोड़ी अधिक शुद्धता के साथ एन-हेक्सानॉल प्राप्त करने के लिए इसे एक आसवन टॉवर द्वारा अलग किया जाता है।
2. आणविक छलनी उपचार: आणविक छलनी के सोखने के गुणों का उपयोग करके, एन-हेक्सानॉल में पानी का अंश हटा दिया जाता है। यह विधि अत्यधिक उच्च शुद्धता के साथ निर्जल एन-हेक्सानॉल प्राप्त कर सकती है।
आणविक चलनी के उपयोग पर नोट्स:
1. आणविक छलनी का चयन करें: सबसे पहले, आपको एक उपयुक्त आणविक छलनी का चयन करना होगा। आमतौर पर एन-हेक्सानॉल से पानी निकालने के लिए उपयोग किया जाता हैआणविक छलनीप्रकारों में 3ए और 4ए शामिल हैं, जिनमें विशेष रूप से पानी के अणुओं के लिए उच्च सोखने की क्षमता होती है।
2. एक सिस्टम बनाएं: प्रयोगात्मक या उत्पादन आवश्यकताओं के अनुसार, एक एन-हेक्सानॉल भंडारण टैंक, एक आणविक चलनी सोखना स्तंभ, एक संग्रह कंटेनर और आवश्यक पाइप और वाल्व सहित एक सिस्टम बनाएं। सुनिश्चित करें कि सभी हिस्से बिना किसी रिसाव के कसकर जुड़े हुए हैं।
3. आणविक छलनी भरना: इसके सोखने के प्रभाव को सुनिश्चित करने के लिए आणविक छलनी को सोखना कॉलम में समान रूप से और कसकर भरें।
4. एन-हेक्सानॉल फीडिंग: पाइपलाइन के माध्यम से सोखना कॉलम में धीरे-धीरे एन-हेक्सानॉल डालें। प्रवाह प्रक्रिया के दौरान, एन-हेक्सानॉल और आणविक छलनी के बीच संपर्क समय बहुत छोटा या बहुत लंबा होने से बचने के लिए प्रवाह दर को नियंत्रित किया जाना चाहिए, जो सोखने के प्रभाव को प्रभावित करेगा।
5. सोखने की प्रक्रिया: जब एन-हेक्सानॉल सोखने वाले कॉलम से गुजरता है, तो उसमें मौजूद पानी आणविक छलनी द्वारा सोख लिया जाएगा। आणविक छलनी की सोखने की क्षमता और एन-हेक्सानॉल में पानी की मात्रा के अनुसार, एन-हेक्सानॉल और आणविक छलनी के बीच संपर्क समय को कुछ समय तक बनाए रखने की आवश्यकता होती है।
6. निर्जल एन-हेक्सानॉल एकत्र करना: आणविक छलनी द्वारा सोखने के बाद, एन-हेक्सानॉल में अधिकांश पानी हटा दिया जाता है, और इस समय निर्जल एन-हेक्सानॉल एकत्र किया जा सकता है।
तकनीकी मापदण्ड:
| नमूना | 4A | |||
| रंग | हल्का ग्रे | |||
| नाममात्र छिद्र व्यास | 4 एंगस्ट्रॉम | |||
| आकार | गोला | गोली | ||
| व्यास (मिमी) | 1.7-2.5(8*12 जाल) | 3.0-5.0(4*8 जाल) | 1.6(1/16 इंच) | 3.2(1/8 इंच) |
| ग्रेड तक आकार अनुपात (%) | 98 से बड़ा या उसके बराबर | 98 से बड़ा या उसके बराबर | 96 से बड़ा या उसके बराबर | 96 से बड़ा या उसके बराबर |
| थोक घनत्व (जी/एमएल) | 0 से बड़ा या उसके बराबर.70 | 0 से बड़ा या उसके बराबर.70 | 0 से बड़ा या उसके बराबर.68 | 0 से बड़ा या उसके बराबर.68 |
| घिसाव अनुपात (%) | 0 से कम या उसके बराबर.20 | 0 से कम या उसके बराबर.20 | 0 से कम या उसके बराबर.40 | 0 से कम या उसके बराबर.40 |
| कुचलने की ताकत (एन) | 35/टुकड़ा से अधिक या उसके बराबर | 85/टुकड़ा से अधिक या उसके बराबर | 30/टुकड़ा से अधिक या उसके बराबर | 70/टुकड़ा से अधिक या उसके बराबर |
| स्थैतिक H2O सोखना (%) | 21.5 से अधिक या उसके बराबर | 21.5 से अधिक या उसके बराबर | 21.5 से अधिक या उसके बराबर | 21.5 से अधिक या उसके बराबर |
| स्थैतिक मेथनॉल सोखना (‰) | 15 से अधिक या उसके बराबर | 15 से अधिक या उसके बराबर | 15 से अधिक या उसके बराबर | 15 से अधिक या उसके बराबर |
| पानी की मात्रा (%) | 1.5 से कम या उसके बराबर | 1.5 से कम या उसके बराबर | 1.5 से कम या उसके बराबर | 1.5 से कम या उसके बराबर |
| विशिष्ट रासायनिक सूत्र |
Na2O . Al2O3 . 2SiO2. 4.5 H2O SiO2 : Al2O3 ≈2 |
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| विशिष्ट अनुप्रयोग |
क) प्राकृतिक गैस, एलपीजी, वायु, अक्रिय और वायुमंडलीय गैसों आदि से CO2 को सुखाना और हटाना ई) आग से बचने के मास्क के लिए छ) फिल्टर के लिए |
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